空調(diào)蒸發(fā)器氦質(zhì)譜檢漏儀承諾守信「多圖」
2021-06-18
氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項(xiàng)
檢漏儀的響應(yīng)時(shí)間會(huì)影響檢漏工作的速度，正常運(yùn)行的儀器響應(yīng)時(shí)間不大于3s。筆者實(shí)測(cè)時(shí)，在漏點(diǎn)處噴射氦氣5～10s后，檢漏儀就發(fā)生響應(yīng)，對(duì)于如此龐大的真空系統(tǒng)，其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。
檢漏時(shí)噴槍在漏孔處停留的時(shí)間應(yīng)為儀器響應(yīng)時(shí)間的3倍，該時(shí)間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時(shí)間，即為兩次噴氦的較小間隔時(shí)間，當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大，該間隔時(shí)間也越長(zhǎng)。正壓法氦質(zhì)譜檢漏采用正壓法檢漏時(shí)，需對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室充入高于一個(gè)大氣壓力的氦氣，當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí)，氦氣就會(huì)通孔漏孔進(jìn)入被檢外表面的周圍大氣環(huán)境中，再采用吸槍的方式檢測(cè)被檢產(chǎn)品周圍大氣環(huán)境中的氦氣濃度增量，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏測(cè)量。筆者根據(jù)實(shí)測(cè)經(jīng)驗(yàn)，兩次噴氦的較小間隔時(shí)間控制在30s左右，即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。
清除時(shí)間在理論上與響應(yīng)時(shí)間相同，但由于儀器零件對(duì)氦的吸附和脫附作用的影響,清除時(shí)間一般要更長(zhǎng)些。（3）其它據(jù)日本有關(guān)文章介紹，日本汽車制造業(yè)，已有30多種零部件在使用氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏，解決密封問題。筆者測(cè)算，在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-9P a ?m3/s的微漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須1分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-8P a ? m3/s的中漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間約須2分鐘；在測(cè)試到數(shù)量級(jí)為10-7Pa?m3/s的大漏漏點(diǎn)時(shí)，清除時(shí)間在3分鐘左右。
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氦質(zhì)譜檢漏常見問題
氦質(zhì)譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的檢測(cè)儀器，那么在使用過程中我們又遇到哪些問題呢？今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來一起總結(jié)一下！
一、為什么用氦氣作為示蹤氣體？其他氣體可以嗎？（1）在空氣中含量低(只有5 ppm)，環(huán)境本底低
（2）惰性氣體不易1燃，不易1爆對(duì)環(huán)境沒有污染，不與其他物質(zhì)反應(yīng)，可以混合到任意濃度
（3）無毒，可以用在食品工業(yè)
（4）在質(zhì)譜儀譜圖中易于與其他物質(zhì)區(qū)分
（5）比空氣輕，運(yùn)動(dòng)速度快
（6）氣體分子很小，可以穿過微小的泄漏孔
（7）其它氣體也可以
二、噴氦檢漏的注意事項(xiàng)。
（1）被測(cè)系統(tǒng)應(yīng)盡量清潔，干燥，無油
（2）如果測(cè)量條件發(fā)生變化（溫度），需要重新對(duì)檢漏儀做內(nèi)部較準(zhǔn)
（3）氦氣比空氣輕，噴氦法檢漏應(yīng)注意方向
（4）盡量不要使用密封脂（油脂會(huì)大量吸附氦氣）
（5）不要向環(huán)境釋放大量氦氣
（6）真實(shí)的漏率信號(hào)應(yīng)當(dāng)是快速上升的信號(hào)，相對(duì)緩慢下降的信號(hào)
三、漏率（leak rate）
在已知漏泄處兩側(cè)壓差的情況下，單位時(shí)間內(nèi)流過漏泄處的給定溫度的干燥氣體量。
注：采用國(guó)際單位制時(shí)，漏率單位為：Pa?m3/s。
氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標(biāo)準(zhǔn)
氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測(cè)量原理，實(shí)現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測(cè)量。氦質(zhì)譜檢漏儀的環(huán)境條件氦質(zhì)譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器，今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來說一下，氦質(zhì)譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些，希望對(duì)您有所幫助。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時(shí)，示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會(huì)從漏孔泄出，泄漏出來的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后，由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識(shí)別能力，僅給出氣體中的氦氣分壓力信號(hào)值。在獲得氦氣信號(hào)值的基礎(chǔ)上，通過標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對(duì)的方法就可以獲得漏孔對(duì)氦泄漏量。
根據(jù)檢漏過程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同，可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法，下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測(cè)原理、優(yōu)缺點(diǎn)及檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)。
真空法氦質(zhì)譜檢漏
采用真空法檢漏時(shí)，需要利用輔助真空泵或檢漏儀對(duì)被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空，采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣，當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時(shí)，氦氣就會(huì)通過漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部，再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀，從而實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測(cè)量。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束，以一定能量注入質(zhì)分析器，目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。按照施漏氣體方法的不同，又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣，可以實(shí)現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來，在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣，可以實(shí)現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測(cè)量。
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真空箱法氦質(zhì)譜檢漏的原理與系統(tǒng)特點(diǎn)
真空箱法氦質(zhì)譜檢漏的充氣回收檢漏系統(tǒng)
1．配置與氣路控制
真空箱：一般為雙工位，兩個(gè)不銹鋼真空箱，開門裝置可采用液壓方式，或加配重的手動(dòng)方式。
工件抽空系統(tǒng)：低真空泵及閥門，低真空測(cè)量充氮與回收系統(tǒng)：氦氣儲(chǔ)存罐(高壓罐)，氦氣回收取罐(低壓罐)，主壓縮機(jī)，輔壓縮機(jī)，過濾器以及一些高壓閥和真空閥門等。
真空箱抽氣系統(tǒng)：為自動(dòng)控制型，由面板、PLC系統(tǒng)(可編程邏輯控制器)，充氦回收系統(tǒng)，真空箱抽氣系統(tǒng)的電路部分以及為自動(dòng)檢漏過程提供參考信號(hào)的壓力傳感器和熱偶計(jì)，同時(shí)，實(shí)施對(duì)整個(gè)系統(tǒng)的工作控制，對(duì)檢漏過程和結(jié)果顯示。
2.系統(tǒng)檢測(cè)過程
1)、通過v1、V4，泵系統(tǒng)對(duì)工件和真空箱抽真空，如果限定的時(shí)間內(nèi)抽到限定的真空度，此時(shí)，電氣控制系統(tǒng)關(guān)閉V1，打開V2
2)、充氦系統(tǒng)通過V2對(duì)工件進(jìn)行充氦至核定的壓力，穩(wěn)定，關(guān)閉V2
3)、關(guān)閉V4，打開V3、V5，處在正常工作狀態(tài)待命的氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行檢漏，如果不漏，電氣控制系統(tǒng)指揮關(guān)斷V3、V5，打開V2對(duì)氦氣進(jìn)行回收。
4)、關(guān)閉V2打開V6對(duì)真空箱放氣，開啟真空箱更換工件。
5)、如果第三點(diǎn)檢漏儀檢測(cè)到超過設(shè)定值(漏率)的工件，檢漏儀聲光報(bào)警，將：工作內(nèi)的氦氣回收,對(duì)真空箱和管道巾的氦氣通過清潔泵抽除，免得影響檢漏儀的檢測(cè)效果和不污染檢漏儀。
6)、維持泵有一定的氦分流作用,不宜過大(不超過41),清潔泵也同樣。
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